从半导体零部件到电动车充电、热管理与激光精密设备，OHI Tech 一站式提供来自可信赖合作伙伴的优质产品与整体解决方案
通嘉科技 Grand Hitek — 韩国官方合作伙伴 OHI Tech
通嘉科技（北京通嘉宏瑞科技股份有限公司，Grand Hitek）成立于2012年，深耕干式真空泵装备及系统集成方案，集研发、生产与服务于一体。公司依托独创的PPACS®产品理念自研全系列干式真空泵与精密核心配件，产品广泛应用于半导体、光伏、锂电、新型显示、LED、工业真空等领域，适配真空镀膜、刻蚀、离子注入等晶圆级高端制程。OHI Tech作为通嘉科技韩国官方合作伙伴，为客户提供按工艺条件的选型与报价支持。
通嘉科技干式真空泵不仅用于半导体，也广泛应用于新型显示、光伏、锂电、LED及工业真空等领域。
适配工艺
推荐系列
各工艺挑战（冷凝、腐蚀、粉尘、热反应、可燃气体）见下方“工艺推荐系列”表。
工艺选型 ↓
适配工艺
推荐系列
亦提供面板显示DRY ETCH设备用Y2O3涂层、零部件精密清洗及6G/8.5G/10.5G密封圈。
适配工艺
推荐系列
GS系列可应用于清洁、一般及苛刻工艺，可靠性高，使用成本极低。
适配工艺
推荐系列
* 使用真空的工序
推荐系列
产品亦应用于工业真空等领域。
分子泵 ↓通过下方按钮查看各行业使用的系列与适配工艺。
5个系列
可应用于清洁工艺、一般工艺的多级罗茨干泵，可靠性高，使用成本极低。
推荐工艺（半导体）
可应用于清洁工艺以及一般严苛工艺的多级罗茨干泵，主要适用于半导体刻蚀与离子注入工艺腔；低能耗、抗腐蚀、占地面积少。
推荐工艺（半导体）
可应用于清洁工艺、一般工艺和苛刻工艺的新型一体爪式干泵，处理粉尘能力极强，是苛刻工艺应用的优选，使用成本极低。
推荐工艺（半导体）
可应用于清洁工艺、一般工艺和苛刻工艺的新型一体爪式干泵，可靠性高，使用成本极低。
推荐工艺（半导体）
面向高流量H₂应用开发的多级罗茨干泵，适用于中等及严苛制程，抽气能力强、可靠性高。
推荐工艺（半导体）
选择行业即可查看该领域各工艺的推荐系列。
| 工艺 | 推荐 | 冷凝 | 腐蚀 | 粉尘 | 热反应 | 可燃气体 | 高流量H₂ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Load Lock | GLR | ||||||
| Transfer | GLR | ||||||
| PVD | GLR | ||||||
| Coater | GLR | ● | |||||
| IMP Source | GMR | ● | |||||
| Strip/Ashing | GMR | ||||||
| Oxide Etch | GMR | ● | |||||
| Poly Etch | GMR | ● | |||||
| Metal Etch(6·8") | GMR | ● | ● | ||||
| HDP | GMR | ● | |||||
| ALD | GHC | ● | ● | ● | ● | ● | |
| PECVD | GHC | ● | ● | ● | ● | ||
| LPCVD | GHC | ● | ● | ● | ● | ||
| SACVD | GHC | ● | ● | ● | ● | ||
| MOCVD | GHC | ● | ● | ● | |||
| Metal Etch | GHC | ● | ● | ||||
| MOCVD | GHR | ● | |||||
| Si EPI | GHR | ● | |||||
| SiC EPI | GHR | ● | |||||
| HJT | GHR | ● |
● = 该工艺的主要挑战 · GMR用于Metal Etch时针对6寸与8寸FAB。
| 工艺 | 副产物与挑战 | 解决方案 | 推荐型号 |
|---|---|---|---|
| Oxide Etch | 轻、中度聚合物 | 低风险 | GMR600/1200 |
| Poly Etch | 中、重度聚合物，腐蚀性气体 | 温度控制 + 镍合金材质 | GMR600/1200 (N) |
| Metal Etch | AlCl₃冷凝 | 中温防冷凝 | GMR600/1200/1800 |
| HDP-CVD | 腐蚀 | 低温耐腐蚀 | GMR1200/1800 (N) |
| Strip/Ashing | 中度聚合物 | 中温防冷凝 | GMR1800 |
| IMP | 中度聚合物 | 中温防冷凝 | GMR200 |
| 工艺 | 推荐 | 冷凝 | 腐蚀 | 粉尘 | 可燃气体 | 频繁pumping |
|---|---|---|---|---|---|---|
| PECVD SiN | GHC | ● | ● | ● | ||
| PECVD SiON | GHC | ● | ● | ● | ● | |
| PECVD SiO₂ | GHC | ● | ● | ● | ||
| Metal Etch | GHC | ● | ● | |||
| Non-Metal Etch | GHC | ● | ||||
| PVD | GLR | ● | ||||
| LL/TC | GLR | ● | ||||
| 蒸镀 | GLR | ● | ||||
| Lami贴合 | GLR | ● | ||||
| coater PHOTO | GLR-P | ● |
● = 该工艺的主要挑战
亦提供面板显示DRY ETCH设备用Y2O3涂层、零部件精密清洗及6G/8.5G/10.5G密封圈。
| 工艺 | 推荐 | 冷凝 | 热解 | 粉尘 | 高流量H₂ |
|---|---|---|---|---|---|
| 拉晶 | GS-S | ● | |||
| 电池片 PECVD | GS | ● | |||
| 电池片 ALD | GS | ● | ● | ||
| 电池片 LPCVD | GS | ● | |||
| 组件 层压 | GLR-P | ● | |||
| HJT | GHR | ● |
● = 该工艺的主要挑战
GS系列可应用于清洁、一般及苛刻工艺，可靠性高，使用成本极低。
| 工艺 | 推荐 | 粉尘 | 水汽 | 溶剂 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|
| 匀浆* | GLR | ● | ● | ● | ① 极片制造 |
| 真空干燥* | GLR | ● | ● | ● | ① 极片制造 |
| 叠片 | GLR | ● | ● | ② 电芯装配 | |
| 组装* | GLR | ● | ● | ② 电芯装配 | |
| 注液 | GLR | ● | ● | ② 电芯装配 | |
| 脱气* | GLR | ● | ● | ● | ③ 电芯后段 |
| EOL检测* | GLR | ● | ● | ● | ③ 电芯后段 |
● = 该工艺的主要挑战
* 使用真空的工序
| 应用 | 推荐 | 备注 |
|---|---|---|
| LED | GLR | FPD/LED等行业 |
| MOCVD（高流量H₂） | GHR | 半导体、LED、光伏 |
| 刻蚀机、金属沉积、硅外延、PVD、CVD、SiC晶体生长系统 | GTP-M | 磁悬浮分子泵 |
| 太阳能制造、ITO导电玻璃、液晶平板、环境模拟 | GTP-G1400 · G2400 | 脂润滑，可任意角度安装 |
| 泛半导体装备、光学镀膜、硬质涂层设备 | GTP-G800 | 脂润滑分子泵 |
| 光学镀膜、真空炉、真空烧结、环境模拟 | GTP-L4400 | 可抽除含粉尘气体 |
| 科学仪器、检漏仪、质谱分析、扫描电镜 | GTP-G300 | 振动小、噪声小 |
| 质谱分析、痕量元素分析、电子显微镜 | GTP-H80 | 仪器用小型分子泵 |
| 检漏、环境监测、科学分析 | GTP-H80D | 分流式（多进气口） |
产品亦应用于工业真空等领域。
将真空泵、增压泵、尾气处理等设备集成为一体的5款一体机。
采用机械增压泵-机械增压泵-干泵结构的集成式叠泵系统，可应用于清洁、一般及苛刻工艺，可靠性高、使用成本低。
针对WN及部分重SiO₂粉尘工艺（HARP、PE-TEOS等）开发的等离子集成一体机，将等离子发生器与真空泵集成，安全高效地延长干泵使用寿命。
模块化设计的双层多泵型集成模块，可灵活集成各类真空泵、冷水机等设备并按需增减模块；适用于半导体Etch、PVD等工艺，大幅降低Hookup成本与Facility点位需求，缩短安装时间。
集成式多泵型模块（真空泵+尾气处理系统），专为提升工艺安全与设备运行稳定性设计，显著降低TCO、Hookup成本与Facility点位需求，节省占地并缩短安装时间。
Hookup费用 70%↓ · Facility连接点位 85%↓ · 占地尺寸 20%↓ · 安装时间 80%↓ · 取得SEMI S2/S6/F47认证
面向Diffusion、EPI、MOCVD等工艺的集成单泵型模块，包含干泵与尾气处理系统；安全可靠、运行稳定、可预测性维护、占地更小。
所示抽速为N₂抽速。
N₂ 1,850 – 4,300 L/s
GTP-M2201 · GTP-M3400 · GTP-M4500
磁轴承无接触、无摩擦、无需润滑及免维护，五自由度主动控制，可各方位安装。应用设备：刻蚀机、金属沉积系统、硅外延系统、PVD、CVD、SiC晶体生长系统等。
N₂ 300 – 4,200 L/s
GTP-G300 · G800 · G1400 · G2400 · GTP-L4400
寿命长、节能（G系列可任意角度安装），适用于太阳能制造、ITO导电玻璃、液晶平板、光学镀膜与硬质涂层、真空炉、科学仪器等。
N₂ 90 L/s
GTP-H80 · GTP-H80D
质谱仪等高端仪器用小型高真空分子泵。H80D为多进气口的分流式分子泵，一台即可起到以往2-3台泵的效果，适用于检漏等场景。
亦提供分子泵系列适配电源（基于IGBT的数控电源）。
韩国提供范围请咨询。
提供各类主流品牌干式真空泵的故障诊断、翻新与再制造、预防性维护保养及现场服务；标准化流程、明确质保期，并设立备件库以缩短停机时间。
用于半导体及面板显示DRY ETCH设备零部件表面涂层，耐刻蚀、耐磨损，延长备件寿命、降低更换成本。
精密控制半导体零部件表面颗粒与粗糙度，并提供面板显示PVD腔体零部件的清洗与运维服务。
适配6G/8.5G/10.5G干法刻蚀设备（APC阀门、ICD、TEL、YAC）的全氟醚密封圈，以及真空泵用VITON/高氟/全氟醚密封圈。
已获中国主要半导体客户重复订单，并与本土设备厂商（OEM）合作。
| 客户 | 工艺 | 通嘉泵数量 | 最长运行时间 |
|---|---|---|---|
| SXX | Logic | 400+ | 23,000h+ |
| CXMT | DRAM | 800+ | 17,000h+ |
| HH Group | Logic | 700+ | 12,000h+ |
| YMTC | 3D NAND | 60+ | 12,000h+ |
| HUAWEI | Logic + Memory + MEMS | 800+ | 9,000h+ |
| BYD | 3GS + MEMS | 500+ | 11,000h+ |
部分客户名称以隐去形式（如SXX、S**C）标注。
各客户、各模块的应用型号及截至目前的最长运行时间。
S**C
412 台
| 模块 | 应用型号 | 最长运行（h） |
|---|---|---|
| CVD | GHC6000, GHC3000, GHC1800T | 30,000+ |
| CVD | GHC1800T | 10,000+ |
| ETCH | GHC1200 | 8,000+ |
| ETCH | GMR1200 | 8,000+ |
C**T
836 台
| 模块 | 应用型号 | 最长运行（h） |
|---|---|---|
| ETCH | GMR1200 | 12,000+ |
| ETCH | GMR1200 | 11,000+ |
| ETCH | GMR1200 | 9,000+ |
| ETCH | GHC3000T | 9,000+ |
| CVD | GHC1200T, GHC3000T | 17,000+ |
P*T
837 台
| 模块 | 应用型号 | 最长运行（h） |
|---|---|---|
| Diff | GMR1200, GHC1800 | 5,000+ |
| CVD | GMR1200, GHC1800, GLR120 | 7,000+ |
| PVD | GMR1200, GHC1800, GMR600 | 9,000+ |
| ETCH | GMR1200, GHC1800 | 8,000+ |
H* group
703 台
| 模块 | 应用型号 | 最长运行（h） |
|---|---|---|
| ETCH | GMR1200 | 12,000+ |
| ETCH | GMR1200 | 8,000+ |
| CVD | GHC3000T | 8,000+ |
BYD
564 台
| 模块 | 应用型号 | 最长运行（h） |
|---|---|---|
| CVD | GMR600, GHC1800T | 11,000+ |
| PVD | GMR600, GHC1800T | 9,000+ |
| ETCH | GMR600, GMR1200, GHC1800T | 10,000+ |
| IMP | GMR1200 | 8,000+ |
| LL | GLR120 | 10,000+ |
Nau**
304 台
| 模块 | 应用型号 | 最长运行（h） |
|---|---|---|
| CVD | GHC600, GHC1200, GHC1800 | 9,000+ |
| PVD | GHC600, GHC1200, GHC1800 | 7,000+ |
| ETCH | GHC600, GHC1800 | 8,000+ |
| IMP | GMR600, GMR1200 | 6,000+ |
8英寸晶圆厂
| 模块 | 应用型号 | 最长运行（h） | 数量 |
|---|---|---|---|
| CVD | GLR120, GHC1800T, GMR600, GHC1200T | 9,000+ | 86 |
| Etch | GLR120, GMR600, GHC1200 | 9,000+ | 42 |
| IMP | GMR200, GMR1200 | 6,000+ | 18 |
Y**C
62 台
| 模块 | 应用型号 | 最长运行（h） |
|---|---|---|
| WN ALD | GHC5000T | 6,000+ |
| PECVD | GHC3000T, GHC1800T | 8,000+ |
| PECVD | GHC3000, GHC1800T | 12,000+ |
| PECVD | GMR1200 | 8,000+ |
较对比机型功耗最多降低50%
600级
1200级
600级
1200级
测算条件：12英寸产能10万片晶圆厂，600级、1200级Medium泵各1,000台运行5年，含电力+PCW+N₂成本。电价1.0 RMB/kWh，N₂ 0.25 RMB/m³，PCW 0.5 RMB/m³。
实际节能效果因工艺与运行条件而异。
面向一致性与稳定性的软硬件设计
结构简单、易于装配，机械稳定性极高，温度控制简便。
较传统电机更节能、低碳、扭矩更高，无感应电流产生。
兼容性广，运行稳定性高。
可应对复杂的工艺挑战。
HMI人机界面 · CMS系统 · 实时参数
硬件成本
运营成本
安全事故成本
| 应用挑战 | 典型工艺 | 解决方案 |
|---|---|---|
| 残留工艺气体及副产物（气态）冷凝 | Metal Etch；LPCVD Nitride；COATER | 提高泵温 / 加热套 / 增加N₂流量 |
| 副产物（固态）沉积 | PECVD Oxide；HARP；MOCVD | 保持充足N₂吹扫 / 粉尘捕集器 / 等离子捕集器 |
| 残留工艺气体及副产物（气态）热解 | PEALD；WCVD | 降低泵内气体温度 / 热捕集器 |
| 未反应气体在泵内发生化学反应 | WN；HARP | 增加分流泵 / 预先去除一种反应气体 / 调整工艺时序 / 降低泵内气体温度 |
| 腐蚀性气体与泵体反应生成FeF₃ | HDP；Poly Etch | 降低泵体温度 / 镍合金 / 防腐涂层 / 增加N₂流量（降低腐蚀性气体浓度） |
性能更优 · 能耗更低 · 占地更小 · 成本更低 · 运营更安全
Performance Enhanced 性能提升
稳定性 · 可靠性 · 一致性
Power Optimized 功耗优化
至2030年真空系统能耗降低30~50%
Area Compacted 占地紧凑
至2030年真空系统占地面积减少30~50%
Cost Reduced 成本降低
至2030年真空系统总拥有成本（TCO）降低30~50%
Safety Assured 安全保障
多级安全系统防护，确保真空系统运行零安全事故
1
应用工况
2
结构
3
抽速等级
4
温控
5
防腐
示例：GHC1800T = Harsh工况 · 爪式 · 1,800 m³/h级 · 高温版 · 球墨铸铁
按抽速等级列出的型号及其他厂商对应型号（参考）。
| 工况 | 系列 | 结构 | 抽速等级（m³/h） | 通嘉型号 | Edxx对应型号 | Ebxx对应型号 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Light | GLR | 多级罗茨 | 120 | GLR120 | IXL120N | EVS-20(P/N) |
| Light | GLR | 多级罗茨 | 600 | GLR600 | iXL600N | EVS-100(P/N) |
| Light | GLR | 多级罗茨 | 1,200 | GLR1200 | IXL1000N | EVS-200(P/N) |
| Medium | GMR | 多级罗茨 | 200 | GMR200 | IXM200 | ESR20N |
| Medium | GMR | 多级罗茨 | 600 | GMR600 / GMR600N | IXM600 / iXM600 XD | EV-X100N |
| Medium | GMR | 多级罗茨 | 1,200 | GMR1200 / GMR1200N | IXM1200 / iXM1200 XD | EV-X200N |
| Medium | GMR | 多级罗茨 | 1,800 | GMR1800 / GMR1800N | IXM1800 / iXM1800 XD | EV-X300N |
| Harsh | GHC | 新型一体爪式 | 200 | GHC200 | IXH200 | EV-M20N / EST25N |
| Harsh | GHC | 新型一体爪式 | 500 | GHC500 | iXH500H | — |
| Harsh | GHC | 新型一体爪式 | 600 | GHC600T | IXH610 | EV-M102N / EST100WN |
| Harsh | GHC | 新型一体爪式 | 1,200 | GHC1200 / GHC1200T | iXH1220H / iXH1220HTX | EV-M202N / EST200WN |
| Harsh | GHC | 新型一体爪式 | 1,800 | GHC1800L / GHC1800T | iXH1820 / iXH1820HTX | EV-M302N / EST300WN |
| Harsh | GHC | 新型一体爪式 | 3,000 | GHC3000T / GHC3000L | iXH3050HTX / iXH3050H SC | EV-M502N / EST500WN |
| Harsh | GHC | 新型一体爪式 | 4,500 | GHC5000T / GHC5000Z | IXH4550HT / iXH4550HTXS | EV-M802N / EST800WN |
| Harsh | GHC | 新型一体爪式 | 6,000 | GHC6000T / GHC6000L / GHC6000Z | IXH6050HT / iXH6050H SC / iXH6050HTXS | — |
| Harsh | GHC（泵组） | 新型一体爪式 | 7,000 | GHC3000T + GMB6000 | iXH3050H + pXH6000 | — |
| H₂ | GHR | 多级罗茨 | 600 | GHR600 | iXH645H | ESA100WN |
7,000 m³/h为GHC3000T与增压泵GMB6000组成的泵组。
SEMI认证
北美与欧盟认证
体系认证
北京通嘉宏瑞科技股份有限公司（通嘉科技 / Grand Hitek）— 总部位于北京亦庄，干式真空泵装备及系统技术服务供应商，应用于半导体、光伏、新型显示及LED照明、锂电等行业
在中国大陆及日本、新加坡布局四大生产基地、四大研发基地及七大运维服务中心，总厂区面积超60,000平方米。
| 地区 | 职能 | 状态 |
|---|---|---|
| 北京（总部，亦庄） | 管理总部（新园区建设中） · 研发总部 · 销售平台 · 新泵、尾气处理器、冷水机生产 · 泵运维 | 运营中 |
| 河北廊坊 | 生产 · 零部件清洗 | 运营中 |
| 上海闵行 | 一体机研发与生产 · 品牌泵运维 | 运营中 |
| 陕西西安 | 分子泵研发与运维 | 运营中 |
| 日本 | 技术中心（2026年成立子公司） | 运营中 |
| 新加坡 | 泵运维与销售平台，辐射新加坡与马来西亚（2026年成立子公司） | 运营中 |
| 浙江杭州 | 新泵生产 | 建设中 |
| 湖北武汉 | 泵运维与生产 | 建设中 |
| 四川成都 | 泵运维 | 建设中 |
研发团队
三大研发基地
技术平台
IPD集成产品开发
四位一体全流程研发链
OHI Tech是通嘉科技（北京通嘉宏瑞科技股份有限公司）的韩国官方合作伙伴，负责干泵、真空集成一体机及分子泵的选型与报价咨询。
GLR（含GLR-P）为清洁与一般工艺用多级罗茨泵（110~4,500 m³/h）；GMR为刻蚀与离子注入工艺腔用多级罗茨泵（210~1,800 m³/h）；GHC为处理粉尘能力极强、适合苛刻工艺的新型一体爪式泵（220~5,500 m³/h）；GS为广泛用于光伏等领域的新型一体爪式泵（1,800~5,500 m³/h）；GHR为面向高流量H₂工艺的多级罗茨泵（600~650 m³/h）。括号内为最大抽速。
应用于新型显示（PECVD、Etch推荐GHC，PVD、LL/TC、蒸镀、Lami贴合推荐GLR，coater PHOTO推荐GLR-P）、太阳能光伏（拉晶推荐GS-S，电池片PECVD/LPCVD/ALD推荐GS，组件层压推荐GLR-P）、锂电（GLR全系列适用于真空干燥、脱气、组装、EOL检测等工序）以及LED、工业真空等领域。新型显示领域国产市占率超65%（2024年），光伏电池片市占率突破50%（2023年）。
loadlock、Transfer、PVD、Coater推荐GLR；IMP source、Strip/Ashing、Oxide/Poly Etch、HDP推荐GMR；ALD、PECVD、LPCVD、SACVD、MOCVD、Metal Etch推荐GHC；MOCVD、Si EPI、SiC EPI、HJT等高流量H₂工艺推荐GHR。6寸与8寸FAB的Metal Etch亦推荐GMR。
按命名规则，G之后第一个字母代表应用工况（H：Harsh/H₂，M：Medium，L：Light），第二个字母代表结构（C：爪式，R：罗茨，S：螺杆），数字为抽速等级（m³/h）。末尾字母代表温控版本（T：高温，Z：超高温，L：低温，空白：标准）与防腐材质（N：镍合金，C：涂层，空白：球墨铸铁）。GHC1800T即Harsh工艺用爪式泵、1,800 m³/h级、高温版。
产品具备SEMI S2-0724、S6-0618、S8-0218、F47-0706，ETL、UL、CE，以及ISO 9001:2015、ISO 14001:2015、ISO 45001:2018认证。公司为国家级专精特新“小巨人”企业、高新技术企业，自2015年以来累计取得授权专利220项以上。
GMR600功率0.8 kW、GMR1200功率1.0 kW，较对比机型SGM600A、SGM1200A分别低50%、44%（0.8 kW）。按600级、1200级各1,000台运行5年测算，电力、PCW与N₂成本分别降低约50%、49%。实际节能效果因工艺与运行条件而异。
已获中国主要半导体客户重复订单，例如CXMT（DRAM）800台以上、HH Group（Logic）700台以上、BYD 500台以上，各客户最长运行时间为9,000~23,000小时以上。2024年累计出货突破30,000台（半导体2,000台以上），2025年半导体大陆市占率提升至15%。
5款真空集成一体机（Mizar开阳、Megrez天权、Merak天璇、Alioth玉衡、Phecda天玑），GTP分子泵（磁悬浮GTP-M、脂润滑GTP-G/L、仪器用GTP-H），以及真空泵运维、Y2O3涂层、零部件精密清洗与密封圈产品。
