RPS 维修与大修
从半导体零部件到电动车充电、热管理与激光精密设备，OHI Tech 一站式提供来自可信赖合作伙伴的优质产品与整体解决方案
什么是 RPS(远程等离子体源)？
RPS(远程等离子体源)是在独立隔离的腔室中生成等离子体，再通过导向输送区(Transport Region)输送至工艺腔室的装置。在半导体工艺中，它是腔室清洁与光刻胶(PR)去除的核心设备。
为什么使用 RPS？
腔室清洁
在半导体工艺中，气体沉积不仅在晶圆上成膜，也会在腔室内部部件上产生不需要的沉积。沉积物累积会导致腔室污染，成为芯片缺陷的来源。RPS 周期性生成等离子体清洁主腔室内部，去除残留物，维持工艺稳定性。
去除 PR (Etch · Ashing · PR Strip)
在 Etch、Ashing、PR Strip 工艺中，使用 RPS 去除晶圆上的光刻胶(PR)。R*evolution 系列专为此类 On-Wafer 工艺优化。
支持维修的 MKS 型号
我们支持 MKS ASTRON、PARAGON、R*evolution 全系列的部件号。请提供您设备的 PN 咨询。
REVOLUTION R1 / R3 / R5
MKS R*evolution
On-Wafer (有晶圆)
支持的部件号 (All PNs)
我们攻克的 4 大故障模式
OHI Tech 不只看症状，而是诊断根本原因以防止复发。
AC LINE · DC BUS Fail
AC 输入 / DC 母线电压异常通常由功率器件问题引起。检查 Fuse BD·Power BD·Booster BD，更换故障部件后进行大修恢复。
Source Leak
长期运行后可能发生源泄漏。根据经验，O-ring 蚀刻 + Reactor 蚀刻后源泄漏概率高，因此优先检查 O-ring 与 Reactor 是否蚀刻。
Ignition Fault
各区段电路板(B/D)故障可能是主因，此外还有多种原因。Block 或 Quartz 与 Reactor 是主要来源。
Particle Fail
由 Block 污染或 Quartz 污染引起。通过清洁·更换抑制颗粒产生。
每次维修后提供 COA 服务报告
所有维修完成后均附检验报告(Certificate of Analysis / Final Inspection & Service Report)。
Leak Test
水检漏 · 真空检漏 — 泄漏率对照规格验证
Anodizing Coating
Block 阳极氧化涂层厚度检查
Plasma Test
不同气体流量下测量 RF Power (Ar · N₂ 等) 对照规格验证
Aging Test
长时间老化确认稳定性后出货
主要更换部件
为什么选择 OHI Tech
MKS 全系列覆盖
支持 ASTRON 2L·3L·6L·8L·15L·22L·30L、PARAGON、R*evolution 全系列部件号。
根本原因诊断
按原因而非症状诊断 4 大故障模式——检查至 O-ring 与 Reactor 蚀刻，防止复发。
提供 COA 报告
随维修交付涵盖 Leak、Coating、Plasma、Aging 检测的服务报告。
较新品更省成本
大修恢复接近新品的性能，同时相比更换降低成本与交期。
常见问题
关于RPS维修与大修最常见的问题整理。
OHI Tech维修与大修MKS远程等离子体源(RPS)全系列：ASTRON TM/2L、ASTRON-I/3L、ASTRON-EX/6L·8L、ASTRON-HF/15L·22L、RPS 30L、PARAGON(AX7700·AX7710)以及R*evolution R1/R3/R5(AX7690·AX7695·AX7696等)。支持AX7651·AX7657·AX7658·AX7670·AX7685·AX7645·AX7667系列部件号。请提供您设备的PN咨询。